3年的潜心研究，在1999年7月就掌握了浸没式光刻系统技术，研发成功全球第一台65nm制程工艺的浸没式光刻机试验机，避免刺激美国，秘而不宣，到去年6月17日才公开。 从1999年8月开始立项，bsec投资1亿元，邓国辉和钱富强带领光刻机光源研究所，静下心来开始研发euv的同时，在65nm制程工艺浸没式光刻机的基础上，经过近六年的潜心研究，研发成功45nm制程工艺浸没式光刻机就不足为奇了。 光源研究所所长钱富强研究员凭借在全球顶尖光刻机期刊上发表的30多篇专业论文，在全球光刻机光源行业具有极高的威望，主持研发成功的65nm制程工艺浸没式光刻机是全球首创，国际领先技术，具有百亿美元的市场价值等重大贡献，于去年11月，被遴选为工程院院士。 bsec光刻机研...